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ARTICLE COMPRISING SILICON SUBSTRATE AND BOND LAYER 发明申请

2022-07-31 2160 42K 0

专利信息

申请日期 2024-11-18 申请号 JP2004147102
公开(公告)号 JP2004346428A 公开(公告)日 2004-12-09
公开国别 JP 申请人省市代码 全国
申请人 UNITED TECHNOLOGIES CORPORATION
简介 PROBLEM TO BE SOLVED : To provide a bond coat not injurious to the mechanical properties of a silicon substrate. SOLUTION : The bond layer for a silicon substrate contains a metal which forms a heat-resistant oxide having a thickness of about 0.1 to 20 μm. The metals which form the heat-resistant oxides include chromium, tantalum, niobium, silicon, platinum, hafnium, yttrium, aluminum, zirconium, titanium, a rare earth metal, an alkaline earth metal, and a mixture thereof.


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