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ARTICLE CONTAINING SILICON BASE MATERIAL, BOND LAYER AND PROTECTIVE LAYER 发明申请

2022-07-31 2340 38K 0

专利信息

申请日期 2024-11-18 申请号 JP2004152719
公开(公告)号 JP2004345353A 公开(公告)日 2004-12-09
公开国别 JP 申请人省市代码 全国
申请人 UNITED TECHNOLOGIES CORPORATION
简介 PROBLEM TO BE SOLVED : To provide an improved bond layer for an environment resistant coating film. SOLUTION : The bond layer for a silicon base material contains a silicon layer having a dispersed granular material. The granular material is selected from the group consisting of alumina (1), yttria (2), aluminum silicate (3), a rare earth metal element (4), an alkali earth metal element, aluminum, oxygen, yttrium, nitrogen, niobium, tantalum, hafnium, zirconium, carbon, silicon and their mixture.


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