稀土盐/氧化剂为基础的化学－机械抛光方法发明申请

2022-07-31 2820 705K 0

申请日期	2024-11-17	申请号	CN02818538.2
公开（公告）号	CN1556840A	公开（公告）日	2004-12-22
公开国别	CN	申请人省市代码	全国
申请人	卡伯特微电子公司
简介	本发明提供一种使用化学－机械抛光系统抛光具有金属层的基片的方法。化学－机械抛光系统包含研磨剂及 /或抛光垫、稀土盐、比稀土盐更强的氧化剂以及液态载体。

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