| 申请日期 | 2024-11-18 | 申请号 | CN03146079.8 |
| 公开（公告）号 | CN1182078C | 公开（公告）日 | 2004-12-29 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 中国建筑材料科学研究院 | ||
| 简介 | 本发明公开一种高反射、吸紫外光陶瓷釉料，是在100重量份石英质基础釉料中添加5～20重量份稀土材料，再添加水和甲基纤维素形成釉浆，釉浆施于陶瓷聚光腔坯体表面，低温烘干后于1160-1200℃下烧釉制成陶瓷聚光腔，所述稀土材料为CeO2、La2O3和Sm2O3中的一种或两种及两种以上的组合。本发明提供的高反射、吸紫外光陶瓷釉料可明显的改善普通陶瓷聚光腔存在的缺点，具有耐强激光辐照、高绝缘、耐腐蚀、易清洗，吸紫外光的特点。 | ||
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