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Method of forming lattice-matched structure on silicon and structure formed thereby 发明授权

2022-07-31 4260 440K 0

专利信息

申请日期 2025-02-27 申请号 US09898039
公开(公告)号 US6852575B2 公开(公告)日 2005-02-08
公开国别 US 申请人省市代码 全国
申请人 Nestor Alexander Bojarczuk Jr; Douglas Andrew Buchanan; Supratik Guha; Vijay Narayanan; Lars Ake Ragnarsson
简介 A method (and resultant structure) of forming a semiconductor structure, includes forming a mixed rare earth oxide on silicon. The mixed rare earth oxide is lattice-matched to silicon.


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