客服热线:18202992950

一种经插层前体制备的高分散铜基氧化催化剂及制备方法 发明申请

2022-07-31 4400 470K 0

专利信息

申请日期 2024-11-19 申请号 CN03150038.2
公开(公告)号 CN1579622A 公开(公告)日 2005-02-16
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 北京化工大学
简介 本发明介绍了一种经层状插层前体制备高分散 铜基氧化催化剂及其组装方法。本发明利用水滑石LDHs结构 的可设计性,层板组成的可调变性和层间离子的可交换性特 点,先在层板定量引入Fe、Cu、Ni、Mn、Zn、Al、Cr或稀土 元素Ce、La、Y等不同种类和数量的催化活性组份,再经插 层组装在层间引入少量的Cu、Mn、Fe、Pd、Ru、Pt等络合阴 离子,制备得到插层化合物前体,通过焙烧插层前体可制备出 高分散、高活性、低成本的铜基氧化催化剂,该催化剂为无污 染的废水处理方面的高效催化剂。


您还没有登录,请登录后查看下载地址


反对 0举报 0 收藏 0 打赏 0评论 0
下载排行
网站首页  |  关于我们  |  联系方式  |  使用协议  |  版权隐私  |  网站地图  |  排名推广  |  广告服务  |  积分换礼  |  网站留言  |  RSS订阅  |  违规举报