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稀土硫代氧化物激光陶瓷 发明申请

2022-07-31 3670 366K 0

专利信息

申请日期 2024-11-17 申请号 CN200410054075.4
公开(公告)号 CN1587201A 公开(公告)日 2005-03-02
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 中国科学院上海光学精密机械研究所
简介 一种稀土硫代氧化物激光陶瓷,其特征在于该激 光陶瓷的组成如下:基料为稀土硫代氧化物- Re2O2S;激光激活离子Nd或Yb离子的掺杂浓度为0.1~10at %;致密剂LiF或 Li2GeF6占0.1~10wt%,采用高温烧结而成。本发明稀土硫代氧 化物激光陶瓷不仅可以克服单晶体生长过程中难以避免的困 难,同时成本相当低,光学各向同性,掺杂离子在基质中分布 均匀,具有优异的热性能。由于具有特别高的发光效率,该类 材料在全固化、集成化的激光器中有着很好的应用前景。


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