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金属电阻体材料, 溅射用标靶, 电阻薄膜及电阻薄膜之制造方法 发明申请

2022-07-31 1110 2616K 0

专利信息

申请日期 2024-11-26 申请号 TW093133312
公开(公告)号 TW200523386A 公开(公告)日 2005-07-16
公开国别 TW 申请人省市代码 全国
申请人 住友金属山股份有限公司
简介 本发明系提供一种金属电阻体材料,该材料系具有较Ni-Cr-Al-Si系合金更为优异之高温安定性,且电阻温度系数几乎为零者。详言之,将经由溅射法所形成之电阻薄膜以(含有Al:1.0至15.0重量%,稀土类元素:0.01至0.5重量%,其余者系由Cr及Ni所组成,且Cr/Ni之重量比为0.15至1.1之)溅射用标靶,在大气中,依200℃至500℃,1至10小时之条件实施热处理。


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