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薄膜稀土族永久磁铁及其制造方法 发明授权

2022-07-31 3040 613K 0

专利信息

申请日期 2024-11-17 申请号 CN01813148.4
公开(公告)号 CN1218331C 公开(公告)日 2005-09-07
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 株式会社新王磁材
简介 本发明之目的在于,提供一种可以使利用气相生长形成的薄膜在层叠方向上各向异性化的薄膜稀土族永久磁铁及其制造方法,通过在具有平面平滑性的非磁性材料的基片1上层叠稀土族元素的单原子层10后,多次重复原子层叠体单元13的形成操作,层叠多个构成特性的原子层叠体单元13,其中,该单元13是通过层叠设置层叠了多层过渡金属元素的单原子层11的过渡金属元素的原子层叠体12形成的,从而使各原子层叠体12在单原子层11的层叠方向上具有易磁化轴,并且抑制被稀土族元素的单原子层10,10夹着的抗磁区的产生,使产生强矫顽力,而且通过提高过渡金属元素对稀土族元素的含有比率,使残余磁通密度有了飞越性提高。


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