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单晶硅片表面制备磺酸基硅烷-稀土纳米复合薄膜的方法 发明申请

2022-07-31 2340 373K 0

专利信息

申请日期 2024-11-17 申请号 CN200510023461.1
公开(公告)号 CN1670248A 公开(公告)日 2005-09-21
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 上海交通大学
简介 一种单晶硅片表面制备磺酸基硅烷-稀土纳米 复合薄膜的方法,将单晶硅片作为基底材料,在其表面采用自 组装方法制备磺酸基硅烷-稀土纳米薄膜,首先将单晶硅片浸 泡在王水中加热5~6小时,在室温中冷却、冲洗干燥后浸入 配制好的巯基硅烷溶液中,静置6~8小时取出,冲洗后用氮 气吹干置于硝酸中反应,把端巯基原位氧化成磺酸基,再将表 面附有磺酸基硅烷薄膜的基片置入由稀土化合物、乙醇、乙二 胺四乙酸、氯化铵、尿素及硝酸组成的稀土自组装溶液中进行 组装,即获得磺酸基硅烷-稀土自组装纳米薄膜。本发明工艺 方法简单,在单晶硅片表面制备的稀土自组装薄膜有明显减 摩、耐磨作用。


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