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一种具有突触特性的掺杂型铁酸铋忆阻器及其制备方法 发明申请

2022-05-31 1140 813K 0

专利信息

申请日期 2024-11-29 申请号 CN202111682062.1
公开(公告)号 CN114361337A 公开(公告)日 2022-04-15
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 华中科技大学; 湖北江城实验室
简介 本发明属于半导体存储器件技术领域,具体公开了一种具有突触特性的掺杂型铁酸铋忆阻器及其制备方法,该忆阻器依次包括衬底、底电极、功能层和顶电极;所述功能层为掺杂铁酸铋薄膜,所述掺杂铁酸铋薄膜的材料为A位单掺杂、B位单掺杂或A位与B位共掺杂的铁酸铋,A位掺杂元素为稀土金属元素和碱土金属元素中的至少一种,B位掺杂元素为3d过渡金属元素。本发明忆阻器通过对铁酸铋进行掺杂,使得器件具备多种阻态,在脉冲调制下,既可实现稳定的二值存储又可实现电导连续可调特性,能够实现与生物突触相类似的功能,可广泛应用于神经网络领域研究。


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