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包含硅基稀土掺杂发光材料的电致发光器件的制备方法 发明申请

2022-07-31 3210 727K 0

专利信息

申请日期 2024-11-18 申请号 CN200410070848.8
公开(公告)号 CN1725919A 公开(公告)日 2006-01-25
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 中国科学院半导体研究所
简介 一种包含硅基稀土掺杂发光材料的电致发光器 件,在稀土离子注入的基础上,利用大剂量的杂质离子注入的 办法在硅基二氧化硅薄膜里引入大量的非桥键氧原子,这种非 桥键氧原子和稀土离子结合形成有效的稀土发光中心,其中包 括:一p-型或n-型硅衬底;一掺杂层,该掺杂层制作在硅 衬底上,该掺杂层是在硅衬底上生长的二氧化硅上用离子注入 的方法形成的,该掺杂层是发光器件的有源区;一n-型或p -型多晶硅层,该n-型或p-型多晶硅层制作在掺杂层上; 一二氧化硅隔离层,该二氧化硅隔离层生长在掺杂层和多晶硅 层上;一电极,该电极制作在n-型或p-型多晶硅层上;另 一电极,该电极制作在p-型或n-型硅衬底上;在二氧化硅 隔离层表面留有一出光口。


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