| 申请日期 | 2024-11-18 | 申请号 | CN200510046967.4 |
| 公开（公告）号 | CN1737675A | 公开（公告）日 | 2006-02-22 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 大连理工大学 | ||
| 简介 | 本发明属于光通信技术中有源光放大器件领域， 具体涉及到一种利用激光退火对掺铒/铒镱共掺氧化铝薄膜进 行晶化的方法。其特征是利用低功率 CO2激光器对等离子体溅射方法 制备掺铒/铒、镱共掺氧化铝薄膜进行照射，退火效果通过调节 激光器工作功率和样品台位置与照射时间控制。本发明的效果 和益处是利用CO2激光束照射 在掺铒/铒、镱共掺氧化铝薄膜，在很短的时间内在薄膜表面产 生高温，提高氧化铝材料的晶化程度，从而可以大幅度地提高 氧化铝中铒的荧光谱强度。 | ||
|
您还没有登录，请登录后查看下载地址
|
客服热线：
手机版
二维码
