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阻止在金属沉积薄膜上产生凸起的方法 发明授权

2022-07-31 4310 1418K 0

专利信息

申请日期 2024-11-26 申请号 CN01812597.2
公开(公告)号 CN1273639C 公开(公告)日 2006-09-06
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 株式会社新王磁材
简介 本发明的阻止在金属沉积薄膜上形成凸起的方法,其特征在于它使用一种气相沉积设备,所述设备包括真空处理腔内的一用于沉积材料的蒸发部分以及一容置元件或夹持元件,用于容置或夹持工件,通过使容置元件或夹持元件围绕水平轴线转动,可以将金属沉积材料沉积在工件的每个表面上。所进行的气相沉积导致形成在每个工件表面上的薄膜的维氏硬度保持在25或更高。根据本发明,当在诸如稀土金属基磁铁的工件表面上形成铝、锌或类似金属的金属沉积薄膜时,可以有效地阻止在金属沉积薄膜上产生凸起。


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