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金属电阻材料、溅射靶材、电阻薄膜及其制造方法 发明授权

2022-07-31 3140 1272K 0

专利信息

申请日期 2024-11-26 申请号 CN200410090057.1
公开(公告)号 CN1321206C 公开(公告)日 2007-06-13
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 住友金属矿山株式会社
简介 本发明提供一种具有比Ni-Cr-Al-Si系合金更优良的高温稳定性,并且电阻温度系数几乎为0的金属电阻材料。采用含有Al:1.0~15.0重量%、稀土类元素:0.01~0.5重量%,其余部分实质上由Cr及Ni构成,Cr/Ni重量比为0.15~1.1的溅射靶材,用溅射法形成的电阻薄膜,对该电阻薄膜在大气中,于200℃~500℃、1~10小时的条件下进行热处理。


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