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金属氧化物薄膜的制备方法 发明授权

2022-07-29 3710 682K 0

专利信息

申请日期 2025-04-10 申请号 CN200510021674.0
公开(公告)号 CN100469940C 公开(公告)日 2009-03-18
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 电子科技大学
简介 金属氧化物薄膜的制备方法,涉及超导带材氧化物过渡层薄膜 的制备技术。本发明方法具体为:1)0.2Pa-2Pa氩氢混合气体环境下, 在NiW3%双轴金属基片上溅射沉积稀土金属薄膜;2)7×10-4Pa-5 ×10-3Pa水蒸气环境下,加入氩氢混合气体使气体总压为0.2Pa-2Pa, 加热沉积了稀土金属薄膜的基片至700℃-1000℃并保持10-120min, 稀土金属薄膜氧化形成具有双轴织构特性的稀土金属氧化物薄膜;3) 降温。本发明方法制备的氧化物过渡层薄膜具有良好的织构和高的表 面平整度,沉积速率可达到0.3nm/s,为工业快速生长第二代高温超 导带材氧化物过渡层薄膜提供了良好的实现途径。


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