| 申请日期 | 2024-11-17 | 申请号 | CN200710065387.9 |
| 公开（公告）号 | CN101284952A | 公开（公告）日 | 2008-10-15 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 北京有色金属研究总院; 有研稀土新材料股份有限公司 | ||
| 简介 | 本发明涉及到化学机械抛光(CMP)磨料粒子CeO2及其制备方法，属于稀土粉体材料的化学制备技术领域。本发明是关于以铈的无机盐溶液利用均相沉淀剂制备得到CMP抛光磨料粒子的方法。其制备步骤是将铈的无机盐与沉淀剂配成一定比例的溶液，通过超声震动使其混合均匀，加热到一定温度生成沉淀，再将浆液静置陈化后，再过滤和煅烧，即可制得CeO2磨料粒子。本发明还通过加入表面活性剂来促进成核速度，从而降低了反应温度，同时得到的磨料粒子球化度也比较好。制备得到了属于单相立方晶系，空间群为O5H－FM3M，分散性好、粒度分布均匀的类球形状，0＜比表面积BET＜50m2/g的CMP磨料粒子。 | ||
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