| 申请日期 | 2024-11-17 | 申请号 | CN200810010282.8 |
| 公开（公告）号 | CN101224553A | 公开（公告）日 | 2008-07-23 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 沈阳理工大学 | ||
| 简介 | 稀土金属辅助作用下的金刚石膜超高速抛光方法，采用的抛光设备为金刚石膜抛光机，其特征在于金刚石膜抛光机包括抛光盘，稀土金属盘和金刚石膜夹具，衡土金属盘与抛光盘接触，金刚石膜由金刚石夹具夹固，并与抛光盘接触，金刚石膜抛光时，抛光盘以6000r/min－60000r/min的超高转速转动，同时稀土金属盘和金刚石膜夹具带着金刚石膜转动，稀土金属盘和带着金刚石膜的金刚石膜夹具的转速小于或等于抛光盘的转速，且旋转方向与抛光盘相反。本发明具有抛光效率高，抛光质量好、成本低等优点，而且由于抛光过程中扩散环境仅在金刚石膜和抛光盘接触表面间形成，抛光盘整体温度低，热变形小，而且抛光过程不需要在真空抛光反应室进行，也不需设置高温热丝，设备简单，工作可靠。 | ||
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