| 申请日期 | 2024-11-17 | 申请号 | CN200810010281.3 |
| 公开（公告）号 | CN101224551A | 公开（公告）日 | 2008-07-23 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 沈阳理工大学 | ||
| 简介 | 金刚石膜的固态稀土金属高速抛光方法，抛光工具为固态稀土金属抛光盘(或抛光研具)，由抛光盘(或抛光研具)与金刚石膜的相对运动而产生的摩擦热，在金刚石膜和固态稀土金属抛光盘接触界面形成热化学反应环境，从而溶蚀金刚石膜抛光表面凸点碳原子，实现对金刚石膜的抛光目的。抛光过程在一般大气环境下进行。可实现平面金刚石膜和任意曲面金刚石膜的抛光，其中曲面金刚石膜的抛光可采用包络法和成型法两种方法，包络法采用球头固态稀土金属抛光棒为抛光工具，成型法采用固态稀土金属成型抛光头为抛光工具。提供了一种不需在真空抛光反应室进行，结构简单、抛光质量好、效率高、成本低，既可用于平面金刚石膜抛光，又可用于曲面金刚石膜抛光的抛光方法。 | ||
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