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单晶硅制备中稀土镧系基合金吸气剂提纯氩气与氩气回收工艺 发明授权

2022-07-27 4440 593K 0

专利信息

申请日期 2024-11-29 申请号 CN200510136041.4
公开(公告)号 CN1990380B 公开(公告)日 2010-10-13
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 天津环煜电子材料科技有限公司
简介 本发明公开了一种新型的稀土镧系基合金吸气剂(CF01剂),它由65%稀土镧系金属元素与35%金属元素组成,其中的稀土镧系金属为镧、铈、镨、钕;金属元素为铁、钛、镁、铜、锌。本发明还公开了单晶硅制备中采用CF01剂提纯氩气的方法,包括(1)采用CF01剂提纯廉价非高纯氩气制备高纯氩气用于单晶硅制备工艺(2)采用CF01剂进行区熔单硅晶氩气提纯循环回收工艺(3)采用CF01剂进行直拉单晶硅氩气提纯循环回收的工艺(4)采用CF01剂进行区熔、直拉单晶硅氩气提纯回收(非循环)生产再生高纯氩气工艺。本发明的CF01剂的综合吸气性能和性价比要高于目前常用的吸气剂,同时对单晶制备中排放的废氩进行回收再利用,不仅可以大大提高经济效益,而且节省能源保护环境。


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