| 申请日期 | 2024-11-17 | 申请号 | CN200810043912.1 |
| 公开（公告）号 | CN101475777B | 公开（公告）日 | 2012-01-25 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 上海华明高纳稀土新材料有限公司 | ||
| 简介 | 本发明公开了一种高精度稀土抛光粉及其制备方法，其特征在于：D50粒径为0.50～1.80μm；且满足：D10≥0.5D50，D90≤2D50，D100≤3D50；本发明将硝酸镧铈或氯化镧铈镨溶液加入pH为4.5～5.5的草酸氨溶液，生成单分散的草酸镧铈或草酸镧铈镨沉淀，然后以将其作为晶种，制备所述高精度稀土抛光粉。采用本发明的方法获得的高精度稀土抛光粉，无需进行气流粉碎和精密分级，具有中位径粒小，粒度分布范围窄的特点，抛光粉的耐磨性和抛光精度稳定性容易控制，产品质量波动小。 | ||
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