用於腔室盖与喷嘴上之稀土氧化物系涂层的离子辅助沉积发明授权

2022-06-04 4760 2387K 0

申请日期	2024-11-17	申请号	TW103124797
公开（公告）号	TWI656572B	公开（公告）日	2019-04-11
公开国别	TW	申请人省市代码	全国
申请人	应用材料股份有限公司
简介	一种制造制品的方法，包括提供用于蚀刻反应器的盖子或喷嘴。然后进行离子辅助沉积(IAD)以在盖子或喷嘴的至少一个表面上沉积保护层，其中所述保护层是具有小于300m的厚度和10微英寸或更小的平均表面粗糙度的耐等离子体稀土氧化物膜。

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