| 申请日期 | 2024-11-17 | 申请号 | CN201210065590.7 |
| 公开（公告）号 | CN102585708A | 公开（公告）日 | 2012-07-18 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 上海华明高纳稀土新材料有限公司 | ||
| 简介 | 本发明的目的在于公开一种稀土抛光材料及其制备方法，它包括如下重量份的组分：稀土抛光粉：65-98份，分散剂：1-5份，混悬剂：5-30份和pH调节剂：0.05-0.3份；与现有的产品相比，抛光粉采用晶型为氟氧化物稀土与立方相稀土氧化物组成的均一固溶体；制得的稀土抛光材料的悬浮性好，产品抛光粉的耐磨性好，抛光速率快，抛光精度容易控制；产品的均一性好，生产效率高，成本低、无污染，适用于集成电路、平面显示、光学玻璃等电子信息产业精密密器件的表面抛光加工，实现本发明的目的。 | ||
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