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稀土抛光盘 发明授权

2022-07-19 3380 235K 0

专利信息

申请日期 2024-11-17 申请号 CN201010598755.8
公开(公告)号 CN102114615B 公开(公告)日 2012-08-08
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 珠海市吉昌稀土有限公司
简介 本发明公开了一种切削率高、耐磨性好、表面光亮度高的稀土抛光盘。该稀土抛光盘的制作配方不同于现有的抛光盘,主要由稀土抛光粉、树脂、硫酸镁或白糖、固化剂和促进剂组成,其中稀土抛光粉成分按质量百分比计含量为60%≤氧化铈≤99.99%,0.01%≤氧化镧≤40%,稀土抛光粉的含量可达65%,稀土抛光粉的相对颗粒小,相对于以往抛光盘可大大提高需打磨物件的光亮度,使产品表面的抛光时间缩短0.6秒左右,提高了工作效率,耐磨性也大大得到了提高,以往同尺寸的抛光盘只能打磨40#的水晶球1000~1200支,本发明可达到打磨40#水晶球4000支的水平。


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