| 申请日期 | 2024-11-17 | 申请号 | CN201210112384.7 |
| 公开（公告）号 | CN102649897A | 公开（公告）日 | 2012-08-29 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 江苏中晶科技有限公司 | ||
| 简介 | 本发明涉及以稀土氧化物为基础的、用于玻璃、含硅化合物表面加工的酸性抛光液技术领域，尤其是一种用于玻璃以及含硅化合物表面加工的酸性抛光液。它包括含铈稀土氧化物抛光粉，分子量100-4000的含有酸酐或酰胺基团的羧酸聚合物，pH值为2.0-5.0。本发明的抛光液分散均匀，生产效率高，产品质量稳定。同时本发明大大减少了被抛光物品的表面划伤，降低抛光机的磨损，延长了抛光机的使用寿命。且配制抛光液时抛光粉用量少，易清洁，减少了对环境的污染。 | ||
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