| 申请日期 | 2024-11-27 | 申请号 | TW101105175 |
| 公开（公告）号 | TW201241215A | 公开（公告）日 | 2012-10-16 |
| 公开国别 | TW | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | JX日鑛日石金属股份有限公司; | ||
| 简介 | 一种金属镧靶之保存方法，系用以保存金属镧溅镀靶之方法，其特徵在於：加工成使事先待保存之金属镧靶表面的粗糙度Ra在1μm以下，接着将该形成有三氟化镧之皮膜的金属镧靶装进透氧率为0.1cm 3 /m 2 ．24h．atm以下、水蒸气透过率为0.1g/m 2 ．24h以下的真空包装中後，对真空包装进行真空抽吸及密封加以保存。对为稀土金属之金属镧靶的保存方法进行改进，提供一种抑制因空气残留及侵入造成靶氧化所导致的粉末化现象，并且可於可使用作为溅镀靶之状态下作长时间保存的技术。 | ||
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