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掺杂稀土锗镓酸盐RExLn1-xGaGe2O7发光材料及其熔体法晶体生长方法 发明授权

2022-07-19 4050 237K 0

专利信息

申请日期 2024-11-26 申请号 CN201110003278.0
公开(公告)号 CN102071463B 公开(公告)日 2012-10-31
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 中国科学院安徽光学精密机械研究所
简介 本发明公开了RE掺杂(RE=Pr、Sm、Eu、Tb、Dy、Er、Ho、Tm、Yb、Cr、Ti、Bi)的LnGaGe2O7(Ln=La、Gd)发光材料,以及它们的熔体法晶体生长方法,其掺杂原子百分比浓度为0.01~50%。按比例配制好的原料经充分混合、压制成形、高温烧结后,成为晶体生长的起始原料;生长起始原料放入坩埚经加热充分熔化后,成为熔体法生长的初始熔体,然后可用熔体法如提拉法、坩埚下降法、温梯法及其它熔体法来进行生长;本发明的发光材料可用于显示、照明及激固体激光技术等领域。


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