用于盖与喷嘴上的稀土氧化物基涂层的离子辅助沉积发明授权

2022-06-04 1310 1707K 0

申请日期	2024-11-17	申请号	CN201480041007.6
公开（公告）号	CN105392913B	公开（公告）日	2019-05-10
公开国别	CN	申请人省市代码	全国
申请人	应用材料公司
简介	制造制品的方法包含提供用于蚀刻反应器的盖或喷嘴。随后执行离子辅助沉积(IAD)以在盖或喷嘴的至少一个表面上沉积保护层，其中，保护层是具有小于300μm的厚度以及10微英寸或更小的平均表面粗糙度的抗等离子体的稀土氧化物膜。

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