| 申请日期 | 2025-04-06 | 申请号 | CN201110285482.6 |
| 公开（公告）号 | CN103013444A | 公开（公告）日 | 2013-04-03 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 上海华明高纳稀土新材料有限公司 | ||
| 简介 | 本发明的目的在于提供一种精密型混合稀土抛光粉及其制备方法，所述混合稀土抛光粉是由晶型为氟氧化物稀土与立方相稀土氧化物组成的均一固溶体；与现在的产品相比，通过球磨粉碎及均化助剂的添加使得碳酸稀土前躯体的晶粒尺寸均匀，氟化反应均匀完全，不产生影响抛光精度及速率的游离态氟离子及氟化物，结晶度高；产品抛光粉的耐磨性好，抛光速率快，抛光精度容易控制；产品的均一性好，生产效率高，成本低、无污染，适用于集成电路、平面显示、光学玻璃等电子信息产业精密器件的表面抛光加工，实现本发明的目的。 | ||
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