| 申请日期 | 2025-04-06 | 申请号 | CN201110192050.0 |
| 公开（公告）号 | CN102288561B | 公开（公告）日 | 2013-04-24 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 中国人民解放军国防科学技术大学 | ||
| 简介 | 本发明公开了一种光学玻璃抛光亚表面损伤层中痕量杂质的检测方法，包括以下步骤：先配制含稀土金属的水溶液，并调pH值；然后将其与漆酶溶液混合，将混合后的溶液样品恒温水浴，反应后通过测定酶蛋白活性值和标准酶活力得到各样品的酶蛋白残留活性百分比；根据该百分比及与之对应的各溶液样品中稀土金属的浓度，拟合出关系曲线；使用移液器在待测玻璃样品全表面或者在未掩膜的局部待测区域引入蚀刻液，检测蚀刻深度并收集蚀刻反应后的蚀刻余液；调整蚀刻余液的pH值，并将其与漆酶溶液混合，然后检测出该蚀刻余液中的酶蛋白残留活性百分比，并根据关系曲线测算出痕量杂质的浓度大小。本发明的检测结果准确、可靠，检测过程灵活快速。 | ||
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