| 申请日期 | 2024-11-17 | 申请号 | CN201110377165.7 |
| 公开（公告）号 | CN103131385A | 公开（公告）日 | 2013-06-05 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 上海华明高纳稀土新材料有限公司 | ||
| 简介 | 本发明的目的在于公开一种铈基混合稀土抛光粉及其制备方法，所述铈基混合稀土抛光粉由晶型为氟氧化物稀土与立方相稀土氧化物组成的均一固溶体；与现有的产品相比，采用本发明制备部分氟化的碳酸稀土与碳酸稀土混合，一方面确保了氟化反应均匀性，另一方面解决了碳酸稀土一次氟化难脱水和产量低的缺点；通过氟含量的控制，确保了氟化均匀性，解决了氟化不均匀而产生影响抛光精度及速率的游离态氟离子及氟化物，在焙烧过程中不产生局部异常粗大的颗粒；产品的耐磨性好，抛光速率快，抛光精度容易控制；产品的均一性好，生产效率高，成本低、无污染，适用于集成电路、平面显示、光学玻璃等电子信息产业精密器件的表面抛光加工，实现本发明的目的。 | ||
|
您还没有登录，请登录后查看下载地址
|
客服热线：
手机版
二维码
