| 申请日期 | 2024-11-17 | 申请号 | CN201110261047.X |
| 公开（公告）号 | CN102352188B | 公开（公告）日 | 2013-08-07 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 上海华明高纳稀土新材料有限公司 | ||
| 简介 | 本发明公开了一种精密型铈锆基固溶体稀土抛光粉及其制备方法，精密型铈锆基固溶体稀土抛光粉，含有如下重量份的组分：氧化铈50-95％，氧化锆5-40％，氧化铁0.1-10％。采用本发明制备的抛光粉，具有成本低，抛光粉的悬浮性小，耐磨性高，抛光粉的有效利用率高，产品质量稳定等优点，可应用于液晶显示、光学元件、集成电路等领域的精密抛光加工。 | ||
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