| 申请日期 | 2025-04-06 | 申请号 | CN201310240142.0 |
| 公开（公告）号 | CN103288119A | 公开（公告）日 | 2013-09-11 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 上海华明高纳稀土新材料有限公司 | ||
| 简介 | 本发明公开了一种稀土抛光粉的制备方法，包括如下步骤：(1)将碳酸稀土与水混合，然后加入矿化剂，陈化，得碱式碳酸稀土浆液；(2)将氢氟酸溶液加入到碱式碳酸稀土浆液中，搅拌1-3h，脱水，得氟碳酸稀土；(3)将氟碳酸稀土进行焙烧，得氟氧化稀土；(4)将氟氧化稀土粉碎、分级，得稀土抛光粉。通过本发明的方法，可得到特定晶型的抛光粉，保证了抛光粉颗粒的尺寸大小和形貌的均匀度，不产生影响抛光精度及速率的游离态氟离子及氟化物，结晶度高；产品抛光粉的耐磨性好，抛光速率快，抛光精度容易控制；产品的均一性好，生产效率高，成本低、无污染，适用于集成电路、平面显示、光学玻璃等电子信息产业精密器件的表面抛光加工。 | ||
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