| 申请日期 | 2024-11-17 | 申请号 | CN201310241866.7 |
| 公开（公告）号 | CN103333663A | 公开（公告）日 | 2013-10-02 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 上海华明高纳稀土新材料有限公司 | ||
| 简介 | 本发明公开了一种稀土抛光粉及其制备方法，所述稀土抛光粉，其特征在于，包括如下重量百分比的组分：氧化硅6～10%，稀土氧化物90～94%。本发明的稀土抛光粉，不引入容易引起划伤、环境污染等的氟，保证了抛光的精度；通过对碳酸稀土预处理，得到了特定的晶型，确保了镧以固溶体的形式存在；通过二氧化硅的引入，抑制了抛光过程中氢氧化镧的形成。本发明具有生产效率高，成本低、无污染，抛光粉的耐磨性和抛光效率高等特定，适用于集成电路、平面显示、光学玻璃等电子信息产业精密密器件的表面抛光加工。 | ||
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