| 申请日期 | 2025-04-06 | 申请号 | CN201310310351.8 |
| 公开（公告）号 | CN103361030A | 公开（公告）日 | 2013-10-23 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 内蒙古科技大学 | ||
| 简介 | 本发明公开了一种含镨超细高精密度稀土抛光粉及其制备方法，该抛光粉作为研磨材料，含有氧化铈、氧化镧、氧化镨，稀土总量TREO在92wt％以上，其中CeO2/TREO=60～70％、La2O3/TREO=30～35％、Pr6O11/TREO=2～7％、Nd2O3/TREO≤0.1%。为了提高抛光效果，在湿法合成工序配入了起化学作用的氟元素，所制得的稀土抛光粉能够得到较好的抛光研磨表面。本发明通过对混合氯化稀土沉淀、氟化、湿磨、焙烧得到含镨稀土抛光粉，其体积中心粒径D50为0.3～1μm，具有良好的悬浮性，分散性，具有粒度分布窄，抛光研磨表面光洁度高的优点。特别适用于高精密元件的抛光。 | ||
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