| 申请日期 | 2024-11-27 | 申请号 | TW101115113 |
| 公开（公告）号 | TW201343925A | 公开（公告）日 | 2013-11-01 |
| 公开国别 | TW | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | JX日鑛日石金属股份有限公司; | ||
| 简介 | 一种不计镧以外之稀土类元素及气体成分，具有4N以上之纯度的高纯度镧之制造方法，系藉由蒸馏钙(distilled calcium)对不计镧以外之稀土类元素及气体成分，纯度在4N以上的三氟化镧原料进行还原，制作纯度4N以上之镧，然後进行电子束熔解，将挥发性物质去除。如前述高纯度镧之制造方法，其分别使Al、Fe、Cu在10wtppm以下。如前述高纯度镧之制造方法，其使气体成分总量在1000wtppm以下。课题在於提供一种如下之技术：可有效率且稳定地提供高纯度镧、由高纯度镧构成之溅镀靶及以高纯度镧为主成分之金属闸用薄膜。 | ||
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