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MAGNESIUM ALUMINUM OXYNITRIDE COMPONENT FOR USE IN A PLASMA PROCESSING CHAMBER 发明申请

2022-05-31 2490 767K 0

专利信息

申请日期 2024-11-26 申请号 WOUS21056873
公开(公告)号 WO2022093974A1 公开(公告)日 2022-05-05
公开国别 WO 申请人省市代码 全国
申请人 LAM RESEARCH CORPORATION
简介 A component for use in a plasma processing chamber system is provided. The component for use in a processing chamber system comprises a bulk component body comprising magnesium aluminum oxynitride and sintering aids. The sintering aids comprise at least one of yttria, yttrium aluminate, rare earth metal oxide, and rare earth metal aluminate.


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