用于腔室盖与喷嘴上之稀土氧化物系涂层的离子辅助沉积发明授权

2022-06-02 4440 5440K 0

申请日期	2024-11-17	申请号	TW107102339
公开（公告）号	TWI745534B	公开（公告）日	2021-11-11
公开国别	TW	申请人省市代码	全国
申请人	美商应用材料股份有限公司
简介	制造物件的方法包含提供用于蚀刻反应器的盖或喷嘴。接著进行离子辅助沉积()以沉积保护层至盖或喷嘴的至少一表面上其中保护层系厚度小于300µ、平均表面粗糙度为10微吋或以下的抗电浆稀土氧化物膜。

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