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稀土磁铁用溅射靶及其制造方法 发明申请

2022-07-12 1590 757K 0

专利信息

申请日期 2024-11-17 申请号 CN201380045400.8
公开(公告)号 CN105026607A 公开(公告)日 2015-11-04
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 吉坤日矿日石金属株式会社
简介 本发明涉及一种稀土磁铁靶,其为以钕、铁、硼作为必要成分的稀土磁铁靶,其特征在于,平均晶粒直径为10~200μm。本发明的课题在于提供一种烧结体靶及其制造方法,该烧结体靶能够形成量产性、再现性优良且具有良好磁特性的稀土磁铁薄膜、特别是钕磁铁薄膜。


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