| 申请日期 | 2024-11-17 | 申请号 | CN201410634606.0 |
| 公开（公告）号 | CN104479555B | 公开（公告）日 | 2016-10-05 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 诺轩化学科技(上海)有限公司 | ||
| 简介 | 本发明提供了一种稀土抛光液及其制备方法，所述稀土抛光液，包括如下重量份的组分：稀土抛光粉20-50份，有机溶剂3-15份，粘土1-5份，水30～76份。本发明解决了抛光粉在水中的悬浮分散，克服了目前抛光液在制备、储存过程中的胶连问题及使用过程中具有良好清洗问题，具有悬浮分散性能好、抛光速率快、抛光精度高、抛光制品的清洗性能优异等特点。本发明适用于集成电路、平面显示、光学玻璃等电子信息产业精密密器件的表面抛光加工，满足了日益严格的商业对抛光材料在精度、抛蚀量、易清洗等抛光良率的要求。 | ||
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