| 申请日期 | 2025-04-06 | 申请号 | CN202111458179.1 |
| 公开（公告）号 | CN114012515A | 公开（公告）日 | 2022-02-08 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 日禺光学科技(苏州)有限公司 | ||
| 简介 | 本发明公开了一种高面型高粗糙度的光学器件抛光方法，涉及光学器件加工技术领域, 包括以下步骤：步骤一：制作抛光盘基底；步骤二：制作稀土抛光盘；步骤三：抛光盘仿形加工；步骤四：抛光盘磁流变精修；步骤五：光学器件抛光。本发明使用经过配比的稀土制作稀土抛光盘，根据待加工零件通过仿形加工出较高面型精度的抛光盘，使用磁流变抛光方式对抛光盘抛光，提高抛光盘的表面光洁度，再使用制作好的抛光盘对工件进行抛光，稀土抛光盘大大提高了抛光效率，经过仿形加工后的抛光盘也可提高工件的面型精度，完成对工件的抛光且兼顾工件的面型精度，对抛光工作人员要求较低，工作效率高，生产经济效益好。 | ||
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