| 申请日期 | 2024-11-17 | 申请号 | CN202210227198.1 |
| 公开（公告）号 | CN114479676A | 公开（公告）日 | 2022-05-13 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 机械科学研究总院海西(福建)分院有限公司; 武汉材料保护研究所有限公司 | ||
| 简介 | 本发明公开了一种光学玻璃超精密加工用低磨料含量和弱酸性抛光液，包括：纳米磨料、分散剂、增效剂、悬浮剂、消泡剂和蒸馏水，调节抛光浆料pH至6～7；所述纳米磨料包含氧化铈、氧化镧、氧化锆其中一种或多种，当所述纳米磨料为一种时为氧化铈；按质量百分数计，所述纳米磨料中氧化铈含量2.5％‑4％，氧化镧含量0‑0.5％，氧化锆含量0‑0.3％，粒径范围100nm‑500nm。本发明减少稀土氧化物和有机物使用，具有水性绿色环保，低经济成本的特点。 | ||
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