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一种氮化硼包覆M2Si5N8 : Eu2+发光材料的合成方法 发明授权

2022-07-07 3400 463K 0

专利信息

申请日期 2024-11-26 申请号 CN201610318283.3
公开(公告)号 CN105969332B 公开(公告)日 2018-01-12
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 浙江理工大学; 杭州玄路光电科技有限公司
简介 本发明公开了一种氮化硼包覆M2Si5N8 : Eu2+荧光材料的合成方法。该方法步骤如下:碱土金属、稀土铕和硼化物氨合溶解,形成蓝绿色氨合离子溶液;将该溶液注入活性球形非晶硅粉中,搅拌使液氨挥发,氨基金属、硼沉析在该粉表面得到混合物;将该混合物装入经氮气吹扫合成炉中,经10℃/min升温到600℃~650℃,保温,直升到1100℃~1380℃,保温得到氮化硼包覆M2Si5N8 : Eu2+荧光材料,充氮使炉内保持0.1 Mpa压力,冷却到常温,取出产物。本发明以活性非晶硅粉通过与其他前驱体组分复合,获得氮化硼包覆M2Si5N8 : Eu2+荧光材料,降低产品成本的同时提高产品质量。


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