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稀土类薄膜磁铁及其制造方法 发明申请

2022-06-06 4280 1915K 0

专利信息

申请日期 2025-02-22 申请号 TW106106991
公开(公告)号 TW201805961A 公开(公告)日 2018-02-16
公开国别 TW 申请人省市代码 全国
申请人 JX金属股份有限公司
简介 一种稀土类薄膜磁铁,以Nd、Fe、B为必要成分,其特徵在於:於在表面存在氧化膜之Si基板上具备Nd基底膜作为第1层,於前述第1层上具备Nd-Fe-B膜作为第2层目的在於提供一种即便为相当於化学计量组成附近之组成范围之0.120≦Nd/(Nd+Fe)< 0.150的组成范围,亦不会发生膜之剥离或基板之破坏,具有良好之磁特性之稀土类薄膜磁铁及其制造方法


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