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一种制备稀土掺杂氧化钨纳米结构薄膜的方法 发明授权

2022-06-06 4410 482K 0

专利信息

申请日期 2025-02-25 申请号 CN201410229468.8
公开(公告)号 CN105199730B 公开(公告)日 2018-03-23
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 五邑大学
简介 本发明涉及一种稀土掺杂氧化钨纳米结构薄膜的制备方法,其工艺步骤为以W粉和稀土氧化物的混合物为原材料,首先用传统的热蒸发法在石英、硅片、陶瓷等耐高温衬底上生长薄膜,再进行退火处理得到稀土掺杂的氧化钨纳米薄膜。该稀土掺杂氧化钨纳米结构材料分布均匀,拉曼光谱显示氧化钨的特征峰,具有高结晶度,采用短波长光激发,发射光谱显示出稀土离子特征峰。由于氧化钨晶体结构丰富、可逆、易变,而稀土离子处于不同的晶格场中时能级劈裂不同,可以根据发射谱线的特点辨别晶体场的变化,从而达到稀土离子对晶格场的探针作用,在发光领域、半导体领域和作为荧光探针等有巨大的潜在应用价值。


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