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深紫外区的非线性光学氟硼磷酸钾晶体及制备方法与应用 发明授权

2022-06-06 4000 422K 0

专利信息

申请日期 2025-02-25 申请号 CN201610591746.3
公开(公告)号 CN106011994B 公开(公告)日 2018-04-10
公开国别 CN 申请人省市代码 全国
申请人 厦门大学
简介 深紫外区的非线性光学氟硼磷酸钾晶体及制备方法与应用,涉及非线性光学晶体。所述晶体的化学式为KBPO4F,空间群为Cc, 晶胞参数为β=90.44(4)°、晶胞体积为Z=4、其分子量为Mr=163.88。制备方法:将钾源、氟源、稀土氧化物、硼源和磷源置于水热反应釜或其它坩埚容器中;将水热反应釜放入烘箱内恒温,或将坩埚容器置于电炉内恒温,然后冷却至室温,洗净,即得。所述晶体可在制备深紫外区的倍频转换的非线性光学器件中应用。


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