| 申请日期 | 2025-02-27 | 申请号 | CN201711374831.5 |
| 公开（公告）号 | CN107964650A | 公开（公告）日 | 2018-04-27 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 应用材料公司 | ||
| 简介 | 本发明涉及用于处理腔室的腔室部件、抗等离子体盖或喷嘴及制造制品的方法。制造制品的方法包含提供用于蚀刻反应器的盖或喷嘴。随后执行离子辅助沉积(IAD)以在盖或喷嘴的至少一个表面上沉积保护层，其中，保护层是具有小于300μm的厚度以及10微英寸或更小的平均表面粗糙度的抗等离子体的稀土氧化物膜。 | ||
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