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用於GaN基底应用的磷属化物缓冲结构和装置 发明申请

2022-06-06 4270 2961K 0

专利信息

申请日期 2025-02-27 申请号 TW106118355
公开(公告)号 TW201816947A 公开(公告)日 2018-05-01
公开国别 TW 申请人省市代码 全国
申请人 英商IQE有限公司
简介 A structure can include a III-N layer with a first lattice constant, a first rare earth pnictide layer with a second lattice constant epitaxially grown over the III-N layer, a second rare earth pnictide layer with a third lattice constant epitaxially grown over the first rare earth pnictide layer, and a semiconductor layer with a fourth lattice constant epitaxially grown over the second rare earth pnictide layer. A first difference between the first lattice constant and the second lattice constant and a second difference between the third lattice constant and the fourth lattice constant are less than one percent.


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