| 申请日期 | 2025-02-27 | 申请号 | CN201711394369.5 |
| 公开（公告）号 | CN107978507A | 公开（公告）日 | 2018-05-01 |
| 公开国别 | CN | 申请人省市代码 | 全国 |
| 申请人 | 应用材料公司 | ||
| 简介 | 本发明涉及用于处理腔室的腔室部件和制造制品的方法。一种制造制品的方法包括提供用于蚀刻反应器的环。随后，执行离子辅助沉积(IAD)以在环的至少一个表面上沉积保护层，其中，保护层是抗等离子体的稀土氧化物膜，所述抗等离子体的稀土氧化物膜具有小于300微米的厚度以及小于6微英寸的平均表面粗糙度。 | ||
|
您还没有登录，请登录后查看下载地址
|
客服热线：
手机版
二维码
