用於腔室盖与喷嘴上之稀土氧化物系涂层的离子辅助沉积发明申请

2022-06-06 3450 4593K 0

申请日期	2024-11-17	申请号	TW107102339
公开（公告）号	TW201830555A	公开（公告）日	2018-08-16
公开国别	TW	申请人省市代码	全国
申请人	美商应用材料股份有限公司
简介	一种制造制品的方法，包括提供用于蚀刻反应器的盖子或喷嘴。然后进行离子辅助沉积(IAD)以在盖子或喷嘴的至少一个表面上沉积保护层，其中保护层是耐等离子体稀土氧化物膜，其厚度小于300m，平均表面粗糙度为10微英寸或更小。

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